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    팔레타이징 시스템 픽 앤 플레이스

    우리는 위치 문제를 해결하고 있습니다.

    오늘날의 포지셔닝 테이블과 스테이지에는 특정 출력 요구 사항을 충족하기 위해 그 어느 때보다 맞춤화된 하드웨어와 소프트웨어가 포함되어 있습니다.이는 복잡한 다축 명령을 통해서도 정확하게 움직이는 모션 설계를 위해 만들어졌습니다.

    정밀한 피드백은 이러한 기능의 핵심입니다. 장거리 이동에서도 나노미터 규모의 분해능과 반복성을 위해 광학 또는 (전자공학으로 강화된) 자기 인코더의 형태를 취하는 경우가 많습니다.

    실제로 소형 무대 설계는 피드백 및 제어 알고리즘에서 가장 큰 혁신을 불러일으켜 매우 큰 부하도 서브미크론 미만의 정밀도로 이동할 수 있습니다.

    먼저 몇 가지 배경 지식: 신속한 프로토타이핑, 자동화된 연구 애플리케이션, 더욱 빠듯한 출시 기간 압박으로 인해 사전 엔지니어링된 스테이지와 데카르트 로봇의 사용이 계속 증가하고 있습니다.특히 포토닉스, 의료 기기, 반도체 R&D 및 제조 분야에서는 더욱 그렇습니다.과거에는 작업 자동화 또는 기타 개선을 위해 다축 모션을 구축하려면 설계 엔지니어가 선형 스테이지를 사내에서 XYZ 조합으로 소싱하고 결합해야 했습니다.

    더 많은 자유도를 얻으려면 측각기, 회전 스테이지 및 기타 엔드 이펙터를 추가해야 했습니다.

    직렬 운동학이라고 불리는 이러한 기계 제작으로 인해 공차 누적으로 인해 오류가 누적되어 부피가 큰 설정이 발생하는 경우가 있습니다.어떤 경우에는 베어링이 이러한 어셈블리를 하나의 회전 중심으로 제한하기도 합니다.

    설계가 모션 요구 사항을 충족하면 이는 문제가 되지 않습니다. 그러나 특히 소형 모션 설계는 그러한 요소를 그다지 용납하지 않습니다.

    이러한 빌드를 헥사포드 또는 스튜어트 플랫폼(모션을 위한 평행 운동 액추에이터 형태)과 대조해 보세요.최소한 소형 다축 모션 어셈블리의 경우 직렬 운동학보다 성능이 뛰어납니다.이는 부분적으로 헥사포드 출력 동작이 베어링(선형 및 회전) 등급에 의해 제한되지 않기 때문입니다.

    대신, 모션 컨트롤은 오류 누적으로 인해 방해받지 않는 애플리케이션 정의 피벗점(회전 중심)에 대한 알고리즘을 실행합니다.더 적은 부품 수, 더 낮은 관성, 더 높은 강성은 다른 이점입니다.


    게시 시간: 2019년 12월 2일
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